高纯气体洁净度控制的标准
由于高纯度体的使用地点、性质、关况(如温度、压力等)都不完全一致，所以，如何确定高纯气体的“三度”(纯度、干燥度、洁净度)，还没有一个严格而明确的概念。
对于纯度和干燥度的控制，我国CBJ73—84《洁净厂房设计规范》中指出，“高纯气体系指纯度大于或等于99.9995%，含水量小于5ppm气体。”
日本把微电子生产中所采用的气体，按其不同的品位，具体分为下列几个不同的档次。
超高纯气体
气体中杂质总含量控制在1ppm以下，水份含量控制在0.2~1ppm。
高纯气体
气体中杂质总含量控制在5%ppm以下，水份含量控制在3 ppm以内.
洁净气体
气体中杂质总含量控制在10 ppm以下,对水份含量未作严格规定。
上述规定，都未涉及洁净度。我们知道，集成电路的生科，有相当一部分是在洁净，是防止法埃粒子污染微电子产品所必需的。所以，对洁净的生产环境绝不允许采用不洁净的气体来破坏，必须使气体的洁净度与洁净环境保持一致。